这张图不知道谁做的,但是“韬(τ)定律”和“摩尔定律”的区别算上写明白了,摩尔定律是工艺不断进化,主要针对的是单一晶体管的优化,对光刻机、工艺依赖较高!而“韬(τ)定律”则是从器件-电路-芯片-系统协同多个纬度进行优化,其中五大突破之一就是:2031年有望达1.4nm等效密度!

这张图不知道谁做的,但是“韬(τ)定律”和“摩尔定律”的区别算上写明白了,摩尔定律是工艺不断进化,主要针对的是单一晶体管的优化,对光刻机、工艺依赖较高!而“韬(τ)定律”则是从器件-电路-芯片-系统协同多个纬度进行优化,其中五大突破之一就是:2031年有望达1.4nm等效密度!
